高純鉬濺射陽極靶材平面鉬靶旋轉(zhuǎn)鉬靶

產(chǎn)品名稱：鉬靶材 （鉬濺射靶材,，鉬陽極靶材，鉬平面濺射靶材,，鉬旋轉(zhuǎn)靶材，鉬管靶等）

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：可以滿足國(guó)標(biāo)或者美標(biāo)

純度：≥99.95%或者更高純度

密度：理論密度的99.5%以上

鉬靶材描述

我們公司專業(yè)生產(chǎn)各種純鉬靶材,，包括平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材,，涵蓋了鉬濺射靶材和鉬陽極靶材。

鉬靶生產(chǎn)工藝過程：混料后裝入模具,，進(jìn)行壓制,，然后燒結(jié)，毛坯加工,，熱處理,，Zui后加工成符合客戶要求尺寸和表面的成品。

純度,、密度和微觀結(jié)構(gòu)對(duì)純鉬靶材具有決定性影響,。我們能夠提供至少99.95%純度且符合所需雜質(zhì)含量的鉬靶材。高密度使其具有特別高的導(dǎo)電性,，在濺射速度方面節(jié)省時(shí)間,。均勻的微觀結(jié)構(gòu)在濺射過程中將具有均勻的侵蝕。

我們能夠提供一套完整的物理性能測(cè)試設(shè)備,，如密度,、硬度、表面粗糙度等,。因此,，在使用渦流測(cè)試儀和超聲波設(shè)備時(shí)，可以嚴(yán)格檢查產(chǎn)品的可能內(nèi)部損傷,，如孔隙和裂紋,，以確保鉬靶材的高質(zhì)量。

鉬靶材的特點(diǎn)

鉬濺射靶材的特點(diǎn)包括：

1. 高純度：我們的鉬濺射靶材具有至少99.95%的高純度,，甚至可以到99.99%,，可滿足嚴(yán)格的半導(dǎo)體涂層應(yīng)用要求。

2.高密度和均勻的微觀結(jié)構(gòu)：鉬靶相對(duì)密度可以達(dá)到99.5%歲以上,，高密度使其具有卓越的導(dǎo)電性,，提供出色的濺射速度。均勻的微觀結(jié)構(gòu)確保在濺射過程中具有均勻的侵蝕,，有助于維持穩(wěn)定的性能,。

3. 完善的物理性能測(cè)試：我們提供一套完整的測(cè)試設(shè)備，包括密度,、硬度,、表面粗糙度等測(cè)試,，以確保產(chǎn)品質(zhì)量并檢查可能的內(nèi)部損傷,，如孔隙和裂紋,。

鉬靶材的使用原理：

鉬濺射靶材主要用于磁控濺射涂層，這是一種新型的物理氣相沉積（PVD）方法,。在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng),，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場(chǎng)的作用下,，Ar氣電離成正離子和電子,， 靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率增大,，在陰極附近形成高密度的等離子體,，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面,，使靶上被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜,。

鉬靶材應(yīng)用領(lǐng)域：

鉬靶材主要是用來濺射形成鉬層，而鉬層是 TFT-LCD 屏幕薄膜晶體管的組成部分,。當(dāng)需要大屏幕格式,、極高圖像清晰度并優(yōu)化對(duì)比度時(shí)，就會(huì)用到它們,。鉬靶也用于微電子工業(yè),，例如用于在頻率濾波器（聲表面波濾波器 (SAW)、體聲波濾波器 (BAW)）中形成涂層,。鉬靶的其他應(yīng)用包括由氮化鉬制成的擴(kuò)散阻擋層,、微電子部件中的導(dǎo)體軌道以及由氧化鉬制成的反應(yīng)濺射透明層，用于 OLED 顯示器和電化學(xué)應(yīng)用,。