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單晶硅多晶硅光伏行業(yè)專用雷士超聲波清洗機

 
 
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發(fā)貨 江蘇無錫市付款后3天內(nèi)
品牌 雷士超聲
結(jié)構(gòu) 振板式
材質(zhì) 不銹鋼304
頻率 40KHZ
更新 2024-11-20 10:49
手機號:13357913176
 
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無錫雷士超聲波設備有限公司

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產(chǎn)品詳細

單晶硅多晶硅光伏行業(yè)專用雷士超聲波清洗機

類型      超聲波冷凝槽

適用領域     半導體、導體、硅晶,、水晶玻璃、液晶屏

槽數(shù)      1

用途      表面清潔處理

         超聲波+加熱+液體循環(huán)+溢流+冷凝降溫

         工業(yè)纏繞薄膜

超聲清洗機 1

超聲發(fā)生器 1

內(nèi)槽尺寸     355×355×320 mm

槽體材質(zhì)     不銹鋼316

超聲功率     600W

超聲頻率     40KHz,、80KHz,、200KHz270KHz    可切換

加熱調(diào)節(jié)     0~60

電器控制     PLC

概述

 

半導體行業(yè)的原材料大部分都由電子器件和硅片組成的,,因為半導體外形比較復雜,,孔內(nèi)小,利用超聲波清洗機的高效率和高清潔度,,得益于其聲波在介質(zhì)中傳播時產(chǎn)生的穿透性和空化沖擊疚,,所以很容易將帶有復雜外形,內(nèi)腔和細空清洗干凈,,在超聲波作用下只需兩三分鐘即可完成,,其速度比傳統(tǒng)方法可提高幾倍,甚至幾十倍,,清潔度也能達到高標準,,提高了對半導體的生產(chǎn)效率,,更突出顯示了用其他處理方法難以達到或不可取代的結(jié)果

LSA-MN12四頻率半導體超聲波清洗機,能有效去除硅片,、晶片表面的有機物,、顆粒、金屬雜質(zhì)及石英,、塑料等附件器皿的污染物,,且不破壞晶片表面特性。根據(jù)不同清洗工藝配置相應的清洗單元,,各部分有獨立控制,,隨意組合,設備結(jié)構(gòu)緊湊,,凈化占地面積小,,造型美觀、實用,,操作符合人機工程原理,。

 

 

2清洗方式

普通的清洗方法一般不能達到孔內(nèi),而孔內(nèi)芯料的反應生成物及其他污染物會在后序工藝中會產(chǎn)生重復污染。無論是采用有機溶劑或是清洗液清洗都容易引入新的污染源,然而利用超聲波清洗技術卻可以實現(xiàn)無重復污染,而且能深入MCP孔內(nèi)的效果,。對不同材料及孔徑的MCP應采用頻率,、聲強可調(diào)的超聲波進行實驗,以確定實際工藝參數(shù)。對孔徑6~12μmMCP的清洗,當媒液為水和乙醇時,可采用空化閾約1/3 W/cm2,聲強10~20 W/cm2,頻率20~120 kHz的超聲波進行清洗,。表1是同一段不同板號的MCP采用不同頻率超聲波清洗后表觀及電性能測試結(jié)果,。由檢測結(jié)果可見,對1μm以下的小顆粒污染物,應選用頻率40 kHz以上的超聲波進行清洗。

3清洗溫度

在硅片的清洗過程中,,清洗液的溫度是一個關鍵因素,。合適的清洗溫度能夠加快油污的去除,得到非常好的清洗效果,。當硅片浸到清洗液中,,硅片上的油污產(chǎn)生膨脹,油污內(nèi)部以及油污與硅片之間的作用力減弱,,溫度越高,,油污膨脹越大,這種作用力就越弱,,表面活性劑分子越容易將油污撬離硅片表面,。同時,溫度的變化可導致膠束本身性質(zhì)和被增溶物在膠束中溶解情況發(fā)生變化,。只有溫度接近表面活性劑溶液的濁點溫度時,,增溶能力最強,因而清洗液的溫度設定在60℃,。


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